俄成功量产自研350nm光刻机

9月13日消息，据frontierindia报道，俄罗斯正将其首台自主研发的350纳米光刻机投入批量生产，首台Progress STP-350计划于2026年12月交付莫斯科Mapper公司。这标志着俄罗斯重建本土半导体设备产业的重要里程碑。更值得关注的是，俄罗斯已在着手研发130纳米光刻技术，首台350纳米光刻机或将成为其更大规模半导体设备研发进程的开端。泽列诺格勒纳米技术中心与白俄罗斯公司Planar合作，开发了用于350纳米工艺节点半导体生产的新型系统。两套系统将分别整合到与俄罗斯国内微电子生态系统相关的企业中。Progress STP-350是一款投影式步进光刻机，可将光掩模上的图案转移到半导体衬底上。俄罗斯宣布，下一代国产光刻系统预计将于2027年投入使用，该系统能够生产130纳米芯片。