俄白联手开发九套芯片设备，覆盖90-65nm全流程

7月24日消息，据报道，俄罗斯正与白俄罗斯Planar公司合作开发九套芯片生产设备，覆盖光掩模制造和光刻工艺关键环节。据介绍，九套设备涵盖光掩模图案制作、缺陷监测、拓扑控制和激光修正等全流程。核心进展包括已交付的两套设备：适用于90至65nm工艺的光掩模图像生成器已于2025年交付。在具体分工方面，白俄罗斯Planar公司负责工程和生产工作，俄方扮演客户和出资方角色。西方制裁切断了俄罗斯获取先进芯片设备的渠道，迫使俄方寻找替代方案，与Planar的合作被视为填补生产链缺口的重要举措。有专家认为，未来几年可能看到完全由俄罗斯公司开发的光刻系统。但俄罗斯在先进制程领域与台积电、三星等国际领先水平仍有较大差距。